管式炉,额定温度分别为1100℃,1400℃,1600℃,1700℃,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结,玻璃的准确退火与微晶化,晶体的准确退火,陶瓷釉料制备,粉末冶金,纳米材料的烧结,金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位,高等院校,工矿企业理想的实验和生产设备。

真空气氛管式炉产品描述
1.1温度分类600℃~1800℃；可抽真空,通气氛；

1.1本款管式炉以硅碳棒,硅钼棒或者电阻丝为加热元件,
1.2采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发,可控硅控制,
1.3炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,该炉具有温场均衡,表面温度低,升降温度速率快,节能等优点。

1.4采用全部先进技术,有单管,双管,卧式,可开启式,立式,单温区,双温区,三温区等多种管式炉型。
1.5具有安全可靠,操作简单,控温精度高,保温效果好,温度范围大,炉膛温度均匀性高,温区多,可选配气氛,抽真空炉型等。

真空高温气氛管式炉产品特点

2.1节能型的陶瓷纤维材料和双层结构,可将外表温度降到常温。

2.2均温区长,操作简便,密封可靠,综合性能指标较高,处于国内水平。

2.3可选择配置耐热钢,石英玻璃,刚玉陶瓷等材料炉管

2.4选配：50段可编程控制器,可选择RS-485串口（另购）实现计算机通讯。