一、基本概念

　　曝光机即电子束曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备。曝光机是20 世纪 60 年代初从扫描电子显微镜基础上发展起来， 70 年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业。

　　二、基本工作原理

　　在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光，受电子束辐照后的光刻胶，其物理化学性质发生变化，在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域，从而在抗蚀剂上形成精细图形。

　　三、常见曝光机举例

　　MYCRO韩国制造的紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。MDA-400M系统成功地应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。

　　MDA-400M系统组件：紫外光源构造、带托盘的晶片工作台、配CCD镜头的显微镜、监视器、掩膜夹具、紫外光源透镜、紫外光源镜片、紫外灯电源系统、操作控制器、350W紫外灯

　　四、 应用范围 　　用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。

　　以上就是关于曝光机的一些基本知识，希望能对您有所帮助。

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